半導体プロセス開発エンジニア

出社・クリーンルーム入室準備。専用の無塵衣（クリーンスーツ）に着替え、エアーシャワーを浴びて高度に管理されたクリーンルームに入室します。

実験データ（ウェーハ）の測定・評価。前日に流したテスト用のシリコンウェーハを電子顕微鏡（SEM）や膜厚計で測定し、エッチングや成膜プロセスの仕上がり（寸法や欠陥）を評価します。

プロセス条件の最適化検討（レシピ変更）。測定結果を基に、より微細化・高性能化を実現するための製造装置のパラメーター（ガス流量、温度、プラズマ出力など）の条件変更（レシピ作成）を行います。

テストラン（試作）の実施。変更した新しいプロセスレシピを用いて製造装置を稼働させ、ウェーハへの加工テストを行います。装置エンジニアと連携してトラブルシューティングも行います。

データ解析・レポート作成・退勤。オフィスエリアに戻り、実験で得られたデータを統計ソフトで解析。歩留まり向上のための考察をレポートにまとめ、退勤します。